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光學(xué)鍍膜的工藝
發(fā)布時(shí)間:
2024-04-11 10:19
光學(xué)鍍膜在高真空涂布室中實(shí)現(xiàn)。 傳統(tǒng)的光學(xué)鍍膜涂層工藝需要提高基材溫度（通常約為300°C）； 而更先進(jìn)的技術(shù)，例如離子輔助沉積（IAD），則可以在室溫下進(jìn)行。 IAD工藝不僅可以生產(chǎn)比常規(guī)涂層工藝具有更好物理性能的薄膜，而且還可以應(yīng)用于塑料制成的基材。
電子束蒸發(fā)，IAD沉積，光控制，加熱器控制，真空控制和自動(dòng)過程控制的控制模塊都在涂布機(jī)的前面板上。 光學(xué)鍍膜兩個(gè)電子槍源位于基板的兩側(cè)，被環(huán)形蓋包圍并被擋板覆蓋。 離子源在中間，而光控窗在離子源的前面。
光學(xué)鍍膜使用行星系統(tǒng)是確保蒸發(fā)材料均勻分布在固定裝置區(qū)域的方法。 固定裝置繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時(shí)繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。 光學(xué)鍍膜燈光控制和晶體控制位于行星驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的中間，而驅(qū)動(dòng)軸則屏蔽了晶體控制。 背面的大開口導(dǎo)致額外的高真空泵。 基板加熱系統(tǒng)由4個(gè)石英燈組成，在真空室的每一側(cè)有兩個(gè)。
光學(xué)鍍膜沉積的傳統(tǒng)方法是熱蒸發(fā)，或使用電阻加熱蒸發(fā)源或電子束蒸發(fā)源。 光學(xué)鍍膜的特性主要取決于沉積原子的能量。 離子源將離子束從離子槍引導(dǎo)到基板表面和生長的光學(xué)鍍膜，以改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的光學(xué)鍍膜特性。
光學(xué)鍍膜的性質(zhì)，例如折射率，吸收率和激光損傷閾值，主要取決于膜的微觀結(jié)構(gòu)。 光學(xué)鍍膜材料，殘余氣壓和基材溫度都可能影響薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。 如果在基材表面上氣相沉積的原子的遷移率較低，則光學(xué)鍍膜將包含微孔。 當(dāng)薄膜暴露于潮濕空氣中時(shí)，這些孔逐漸被水蒸氣填充。
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